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一、參觀公司臨空工廠二、對公司及所屬行業的基本情況進行介紹三、投資者互動交流:Q1:公司所屬PVD鍍膜行業的基本情況。物理氣相沉積(PVD)為真空鍍膜技術的一個分支路線,相較于傳統的電鍍、化學鍍、熱加工等工藝,具有成膜均勻,硬度高,耐極端使用環境,顏色多樣化,材料適應范圍廣,環保無污染,無鉻離子等重金屬污染。PVD技術分為蒸鍍法、濺鍍法和離子鍍法。三種方法各有優劣勢:蒸鍍速度快,濺鍍法均勻性好,離子鍍繞鍍能力強。不同方法的選擇主要取決于產品用途與應用場景。從應用角度來看,PVD鍍膜作為物體表面處理技術,應用空間非常廣泛,不同應用有不同的要求,例如半導體、平板、光伏對鍍膜材料織構要求較高,光學、防偽對膜層設計要求較高,電磁+傳感對原材料的要求較高。PVD材料的生產可以分為粉末冶金、金屬熔鑄兩類工藝,粉末冶金(含噴涂)適用于難熔金屬、化合物、合金靶材,金屬熔鑄(含擠壓)適用于普通易熔煉金屬,常見的靶材質性能指標有純度、晶粒大小與取向(織構)、致密度等。Q2:公司的核心競爭力是什么阿石創2002年踏入,至今已有20年發展歷史,從光學到節能玻璃,再到LED與顯示面板、光伏與半導體等,在設備端、工藝端、客戶端積累了豐富的PVD鍍膜經驗,對PVD鍍膜設備端、工藝端、材料端的復合理解力與綜合應用能力是當前阿石創的核心競爭力。客戶端:公司已累計服務全球客戶超四百家,涵蓋了光學光通訊、平板顯示、節能玻璃、光伏等諸多領域;設備端:與日本愛發科、美國AKT、新科隆等鍍膜設備廠商保持良好的溝通;工藝端:經過過往的二十年,積累了豐富的膜層設計、膜系分析經驗,奠定了堅實的技術基礎。Q3:ITO靶材的生產與應用ITO(氧化銦錫)靶材是一種陶瓷靶材(采用粉末冶金工藝),其生產工藝是將氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合后經過一系列的生產工藝加工成型,再高溫氣氛燒結形成。ITO薄膜具有優良的光電性能,對可見光的透過率達95%以上,導電性和加工性能極好,硬度高且耐磨耐蝕。公司產品中ITO系列產品可應用在平面顯示、光伏等領域上。Q4:請問公司能否生產適用于光伏HJT領域的AZO靶材?公司已自主掌握AZO靶材的研發與生產技術;并憑借著PVD鍍膜材料行業多年的技術積累和客戶口碑,以及能夠為客戶同時提供ITO靶材和AZO靶材的全類型服務。Q5:PET銅箔的研發與應用目前PET銅箔工業化生產的難點在于控制薄膜穿孔與鼓包,即其中的PVD生產環節。PVD生產環節的關鍵點在于材料、設備和工藝。阿石創憑借著二十年以來對PVD鍍膜材料的技術積累,結合設備生產商與傳統光學、電子等鍍膜工藝應用領域的經驗,積極研發生產復合銅箔,助力鋰電銅箔行業的發展。Q6:請問公司鋰電行業PET銅箔的研究進度如何?是否進入送樣環節?公司復合銅箔項目現已完成與設備產商的技術交流環節,部分產線設備已下定。